台积电与 ASML 转向 12 英寸光罩，以释放 High-NA EUV 全视场潜力

台积电与 ASML 正研究 12 英寸（300mm）光罩方案，以解锁 High-NA EUV 光刻的全视场（full-field）潜力。当前 High-NA EUV 使用的 6 英寸光罩视场减半、需要更多次曝光，放大到 12 英寸光罩可恢复全视场，并减少先进节点的曝光次数与成本。这一动向被视为先进制程与 AI 算力供应链的关键设备演进信号。