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台积电与ASML研究12英寸光罩方案
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AI 综述
2026年10月12日，有报道称台积电与ASML正在研究12英寸（300mm）光罩方案，目标是解锁High-NA EUV光刻的全视场潜力。报道指出，当前High-NA EUV使用的是6英寸光罩，视场因此减半，需要更多次曝光；若放大到12英寸光罩，则可恢复全视场，并减少先进节点的曝光次数与成本。报道将这一动向视为先进制程与AI算力供应链的关键设备演进信号。目前该方案仍处于研究阶段，报道未提及具体时间表或量产安排。
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最新进展10月12日 23:04
台积电与ASML被曝正研究12英寸光罩，以恢复High-NA EUV全视场、减少曝光次数。报道时间线
沿着报道，了解事件的不同侧面。
10月12日
- AGI Hunt台积电与 ASML 转向 12 英寸光罩，以释放 High-NA EUV 全视场潜力
台积电与 ASML 正研究 12 英寸（300mm）光罩方案，以解锁 High-NA EUV 光刻的全视场（full-field）潜力。当前 High-NA EUV 使用的 6 英寸光罩视场减半、需要更多次曝光，放大到 12 英寸光罩可恢复全视场，并减少先进节点的曝光次数与成本。这一动向被视为先进制程与 AI 算力供应链的关键设备演进信号。
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